光化学离子除臭工艺是一种安全可靠的处理方法，除臭效率高。其原理为离子辐射直接活化臭气分子发生分解的直接反应与辐射活化其它气体分子再分解臭气分子的间接反应相结合的一种高级氧化技术，综合利用了高强辐照场离子对恶臭物质的破坏作用和氧对恶臭物质的氧化去除作用来去除恶臭气体中的硫化氢、氨、甲硫醇等 VOC (挥发性有机物)，并利用了水与氧在强辐照下分解所产生的活泼的次生氧化剂 (OH 自由基) 来氧化分解恶臭气体，改变臭气分子的物化特性，最终污染物质被活性氧分解成 CO₂、水和其它小分子化合物以达到除臭目的。高强辐射场和氧一道，存在一个协同作用，这种协同作用使该技术对恶臭去除的反应速率提升 7 至 9 个数量级，即反应速度增加千万至十亿倍。整个除臭过程受外界干扰较少，反应产物对人体与环境较为友好，不易产生二次污染物。
光化学离子降解硫化氢、氨、甲硫醇
硫化氢
硫化氢的光化学反应如下：
O3+hv → O2+O
O+H20 → 2OH
O+O2 → O3
H2S+O3+hv → S2- +H2O+O2
氨
氨同样可以在光化学离子有害气体处理设备中得到较好的去除，发生初级光化学离子反应后的分子或者自由基吸收辐射后继续发生化学变化，产生的产物能够进一步参与次级化学过程。
①触发反应
O3+hv+O2+O
O2+hv → O+O
NH3+hv →NH+2H
O3+OH- →HO2+O2-
HO2+O2—+H+
②传递过程
O+H2O → 2OH
O+O2 → O3
O2-+O3 →O3-+O2
O3-+H+ →HO3
2NH → N2+2H
③终止反应
2-NH+O+N2+H2O
甲硫醇
甲硫醇的光化学离子反应和硫化氢的类似，同样是因为 HS- 结构型式的破坏而失去臭味。
O3+hv → O2+O
O+H2O → 2OH
O+O2 → O3
HS-+O3+hv → S2-+OH+O2
光化学离子设备技术特色
◇ 光化学技术是一种经济有效的实用技术：通常处理的恶臭气体具有量大、浓度低的特点，非常适配光化学反应这类低耗高效的处理技术。
◇ 反应速度快，除臭效果优良，设备体积紧凑，占用空间小，非常适用于项目改造、新增设备的工况。
◇ 设备运行稳定：设备内部无高温高压零部件，耐腐蚀性好，运行安全平稳，开机后日常管理简便。
◇ 设备维护工作量小：光 / 氧反应受外界环境干扰小，除臭效果长期稳定，管路维护简单。
◇ 设备核心部件 —— 发射管选用高品质进口光源，能够稳定高效输出短波光子能量，使用寿命长久。
◇ 设备支持就地手动控制、PLC 自动控制；可切换正常运行、经济运行模式；可远程上传运行状态与故障信号。
光化学离子处理系统示意图
